用于航天器真空热试验中的跟踪控温装置

摘要

本发明涉及一种用于航天器真空热试验中的跟踪控温装置，包括试验支架法兰、卫星对接法兰，两个薄膜加热器、跟踪控温热电偶、温度程控系统，其中，试验支架法兰通过隔热绝缘垫与卫星对接法兰机械绝热连接，卫星对接法兰连接孔附近处确定为作为被跟踪点的热电偶测温点，作为跟踪点的试验支架对接法兰连接孔附近设置两个薄膜加热器构成的跟踪控温加热回路和设置在两个薄膜加热器中间测量跟踪点温度的跟踪控温热电偶，温度程控系统采集被跟踪点和跟踪点的温度，通过对两温度的差值比较来控制控温加热回路中的薄膜加热器的加热以将温度差值设置在±1.0℃范围内。使得热平衡试验所取得的数据准确有效，为验证和修正热网络模型提供试验数据。

主权项

一种用于航天器真空热试验中的跟踪控温装置，包括支架对接法兰、卫星对接法兰，两个薄膜加热器、跟踪控温热电偶、温度程控系统，其特征在于，试验支架法兰通过隔热绝缘垫与卫星对接法兰机械绝热连接，卫星对接法兰连接孔附近处确定为作为被跟踪点的热电偶测温点，作为跟踪点的试验支架对接法兰连接孔附近设置两个薄膜加热器构成的跟踪控温加热回路和设置在两个薄膜加热器中间测量跟踪点温度的跟踪控温热电偶，跟踪控温热电偶距离两薄膜加热器10mm左右，温度程控系统采集被跟踪点和跟踪点的温度，通过对两温度的差值比较来控制控温加热回路中的薄膜加热器的加热以将温度差值设置在±1.0℃范围内，所述两个薄膜加热器的薄膜加热片粘附在试验支架法兰与卫星对接法兰侧面上，且所述支架对接法兰是表面包覆镀铝聚酯膜的支架法兰。