| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Ultraweitwinkelobjektiv mit einer in ihrer Reihenfolge von der Objekt- zur Bildebene geordneten Abfolge von Linsenelementen, umfassend: eine Frontgruppe mit einer ersten Linse, die als Frontlinse angeordnet und als positive Meniskuslinse ausgebildet ist, deren objektseitige Oberfläche einen kleineren Krümmungsradius als ihre bildseitige Oberfläche aufweist, einer der Frontlinse (1) bildseitig benachbarten zweiten Linse (2), die als negative Meniskuslinse ausgebildet ist, deren objektseitige Oberfläche (21) einen größeren Krümmungsradius als ihre bildseitige Oberfläche (22) aufweist, und einer der zweiten Linse (2) bildseitig benachbarten dritten Linse (3), die als negative Meniskuslinse ausgebildet ist, deren objektseitige Oberfläche (31) einen größeren Krümmungsradius als ihre bildseitige Oberfläche (32) aufweist, eine der Frontgruppe (I) bildseitig benachbarte Aperturgruppe (II), mit einer objektseitig angeordneten vierten Linse (4) mit positiver Brechkraft, und einem der vierten Linse (4) bildseitig benachbarten ersten Kittglied (56) mit + einer objektseitig angeordneten fünften Linse (5), die als negative Meniskuslinse ausgebildet ist, deren objektseitige Oberfläche (51) einen größeren Krümmungsradius als ihre bildseitige Oberfläche (52) aufweist, und + einer bildseitig angeordneten sechsten Linse (6), die als Bikonvexlinse ausgebildet ist, einer dem ersten Kittglied (56) bildseitig benachbarten Aperturblende (STO), eine der Aperturgruppe (II) bildseitig benachbarte Fokussiergruppe (III) mit einem objektseitig angeordneten zweiten Kittglied (78) mit + einer objektseitig angeordneten siebten Linse (7) mit positiver Brechkraft und + einer bildseitig angeordneten achten Linse (8) mit negativer Brechkraft, einer dem zweiten Kittglied (78) bildseitig benachbarten neunten Linse (9) mit positiver Brechkraft und einer der neunten Linse (9) bildseitig benachbarten zehnten Linse (10). Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass die zehnte Linse (10) als negative Meniskuslinse ausgebildet ist, deren objektseitige Oberfläche (101) einen größeren Krümmungsradius als ihre bildseitige Oberfläche (102) aufweist.</p> |
