从基片去除污染的方法和设备

摘要

清洁材料设置在基片上。该清洁材料包括分散在液体媒介内的固体成分。力施加到该液体媒介内的固体成分上以使该固体成分接近该基片上存在的污染物。施加到该固体成分上的力可由该液体媒介内的不溶成分施加。当使该固体成分足够接近该污染物时，在该固体成分和该污染物之间建立相互作用。然后，移动该固体成分远离该基片从而将与该固体成分相互作用的该污染物从该基片去除。

主权项

一种用于从基片去除污染的方法，包括：将清洁材料设在基片上，该清洁材料包括多种分散在液体媒介中的固体成分；向多种固体成分中的一种固体成分施加力以使该固体成分接近该基片上存在的污染物，从而在该固体成分和该污染物之间建立机械连接以将该污染物与该固体成分联接在一起，其中该机械连接是由该污染物压印导致的该固体成分的变形而建立的；以及移动该固体成分远离该基片，从而将与该固体成分机械连接在一起的污染物从该基片去除至该液体媒介中，其中在该液体媒介中该污染物保持与该固体成分的机械连接。