发明名称 | 一种石墨舟饱和处理工艺 | ||
摘要 | 本发明公开了一种石墨舟饱和处理工艺,包括如下步骤:将石墨舟清洗并干燥的步骤;进行干燥的步骤;在管式PECVD内进行饱和处理的步骤;进行工艺调试的步骤。本发明提高了镀膜的合格率,在一定程度上降低了色差等不良品的比例,解决了原来石墨舟饱和的技术难题,大大提高了产线的产能及效益。 | ||
申请公布号 | CN102280396B | 申请公布日期 | 2013.04.10 |
申请号 | CN201110270015.6 | 申请日期 | 2011.09.14 |
申请人 | 江阴鑫辉太阳能有限公司 | 发明人 | 陈跃;陈树同;张宗阳;刘亚新 |
分类号 | H01L21/673(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/673(2006.01)I |
代理机构 | 江阴市永兴专利事务所(普通合伙) 32240 | 代理人 | 达晓玲;詹世平 |
主权项 | 一种石墨舟饱和处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:用浓度为15%~20%的氢氟酸对石墨舟进行清洗的步骤;在烘干箱内进行4h~6h干燥的步骤;在管式PECVD内进行饱和处理的步骤, 在真空条件下进行2~4次射频辉光, 每次辉光时间为2000s~2500s,相邻两次辉光时间间隔200~500s;射频辉光的频射功率为4800W~5600W,饱和温度为450℃~480℃,氨气和硅烷的流量比为1000:9000,占空比为3:30;进行工艺调试的步骤。 | ||
地址 | 214400 江苏省无锡市江阴市新桥镇工业园区 |