发明名称 |
纳米颗粒的制备 |
摘要 |
本发明公开一种用于制备纳米颗粒的方法,该方法能够良好地控制生产参数并提高生产率。该方法包括以共平面的方式布置的多个溅射靶、位于所述多个溅射靶之间的用于发射气体流的第一气体供给装置、以及多个磁控管,各个磁控管位于各个所述溅射靶的后方。磁控管可以各自具有独立受控的电源,从而允许进行精确控制。例如,所述靶可以具有不同的材料,从而允许改变合金组成。可以设置多个另外的气体供给装置,所述另外的气体供给装置各自向一个溅射靶上提供气体供应。溅射靶可以以轴对称的方式布置,理想的是对称地布置在所述第一气体供给装置的周围。特别有利的是,使溅射靶位于支撑件的表面、并且位于该表面上的由竖立构件界定的凹入部分内,因为这样能够使所述多个另外的气体供给装置位于所述竖立构件上,并且各自朝向一个溅射靶。这样就能够精确控制各个溅射靶上的气体流速和方向。 |
申请公布号 |
CN103037960A |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN201180034102.X |
申请日期 |
2011.07.08 |
申请人 |
曼蒂斯沉积物有限公司 |
发明人 |
拉尔斯·埃勒斯 |
分类号 |
B01J2/04(2006.01)I;B01J2/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
B01J2/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
丁业平;金小芳 |
主权项 |
一种用于制备纳米颗粒的装置,包括:多个溅射靶,所述多个溅射靶以共平面的方式布置;第一气体供给装置,所述第一气体供给装置位于所述多个溅射靶之间,用于发射气体流;以及多个磁控管,各个磁控管分别位于各个所述溅射靶的后方。 |
地址 |
英国牛津郡 |