发明名称 |
真空吸附嘴 |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种可适应安装高速化及高密度化的真空吸附嘴。为了实现该目的,本发明的真空吸附嘴(1)具备真空吸附吸附物的吸附面(2)和与所述吸附面连通的吸引孔(3),其特征在于,含有所述吸附面的前端部由陶瓷构成,所述陶瓷包含构成该陶瓷的主成分、具有比该主成分的平均晶粒直径大的平均晶粒直径的第二成分,在所述吸附面(2)上所述第二成分的晶粒比所述主成分的晶粒更加突出。 |
申请公布号 |
CN101911860B |
申请公布日期 |
2013.04.10 |
申请号 |
CN200980102440.5 |
申请日期 |
2009.01.19 |
申请人 |
京瓷株式会社 |
发明人 |
浜岛浩 |
分类号 |
H05K13/04(2006.01)I;B25J15/06(2006.01)I |
主分类号 |
H05K13/04(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
一种真空吸附嘴,具备真空吸附吸附物的吸附面和与所述吸附面连通的吸引孔,其特征在于,含有所述吸附面的前端部由陶瓷构成,所述陶瓷包含:构成该陶瓷的主成分、具有比该主成分的平均晶粒直径大的平均晶粒直径的第二成分,在所述吸附面上所述第二成分的晶粒比所述主成分的晶粒突出,所述第二成分的晶粒的平均突出高度为1μm以上7μm以下。 |
地址 |
日本京都府 |