用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法

摘要

一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，该弯液面限定在该临近端头的底部和该基片之间，该临近端头进一步配置为从该基片大体上去除所设置的光刻胶显影液的弯液面。以及，一种用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，包括：在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面；在该基片上横向移动该限定的光刻胶显影液的弯液面；以及控制该光刻胶显影液在该基片上的存留时间，其中该存留时间代表该基片上给定位置暴露于该光刻胶显影液的弯液面的持续时间。

主权项

一种用于控制光刻胶显影液在基片上存留时间的方法，包括：在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面；在该基片上横向移动该限定的光刻胶显影液的弯液面；紧接着在基片上横向移动该限定的光刻胶显影液的弯液面之后允许光刻胶显影液的薄膜保留在该基片上；在该基片上限定清洗流体的弯液面；以关于该光刻胶显影液的弯液面随后的方式，在该基片上横向移动该限定的清洗流体的弯液面，从而使得所述光刻胶显影液的薄膜被跟随光刻胶显影液弯液面的清洗流体弯液面从该基片去除；以及控制该清洗流体的弯液面和该光刻胶显影液的弯液面之间的间隔距离，其中对于给定的该基片和该光刻胶显影液弯液面之间的相对速度，控制该间隔距离使得能够控制该光刻胶显影液在该基片上的存留时间；其中该存留时间由该光刻胶显影液的弯液面和该光刻胶显影液的薄膜均存在于基片上的持续时间限定。