一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法

摘要

本发明涉及一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法，属于集成电路制造工艺和版图设计技术领域。本发明提供的方法通过预设分块密度下限和预设允许密度波动值，并将版图划分等大小的分块，然后利用设计规则检查工具决定每个分块的密度。首先将每个分块密度调整到密度下限以上，再通过将每一分块的密度与周围相邻分块密度差限制在预设允许波动值范围以内，从而减小了不同分块之间的密度差异，提高版图上金属线密度的均匀性，实现更好的平整性，提高了芯片质量。

主权项

一种用冗余金属填充实现版图密度均匀化的预处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(1)将版图进行网格化处理，使之形成多个等大小的分块；(2)依次计算每个分块的密度；(3)根据预设分块密度下限，将所述版图中所有分块的密度调整到所述预设分块密度下限之上;(4)将每个分块的密度调整到使之与其周围相邻各个分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内;(5)根据调整后的各分块密度对所述版图进行冗余金属填充；其中，所述步骤（4）包括：对于每个分块，得到与该分块的周围相邻各分块密度的最大值，根据所述最大值调整该分块的密度与其周围相邻各分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内；其中，所述根据所述最大值调整该分块的密度与其周围相邻各分块的密度差值在预设允许密度波动值范围内，包括将所述最大值与该分块密度进行比较，判断所述最大值减去该分块密度的差值是否大于预设允许密度波动值，如果是，则将当前分块密度大小调整为所述最大值减去预设允许密度波动值的差值，否则不做调整。