发明名称 | 硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜 | ||
摘要 | 本发明涉及硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜,通过改变组成多层膜Laue透镜局部光栅的2种材料的厚度比(γ=dA/(dA+dB),A为吸收层,B为间隔层),选择合适的截面深度t,极大的提高高级次衍射的效率,从而有效的利用高级次衍射光,进一步提高硬X射线的聚焦分辨率。与传统的多层膜Laue透镜相比,本发明提出利用Laue透镜的高级次衍射对硬X射线进行聚焦,并通过改变Laue透镜结构中不同材料的厚度比,克服了传统波带片高级次衍射效率低下的问题,是实现高效率纳米级硬X射线聚焦的有效方法。 | ||
申请公布号 | CN103021496A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
申请号 | CN201110287085.2 | 申请日期 | 2011.09.24 |
申请人 | 同济大学 | 发明人 | 黄秋实;朱京涛;李浩川;王占山 |
分类号 | G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
代理机构 | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人 | 叶敏华 |
主权项 | 硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜,其特征在于,该Laue透镜由吸收层和间隔层周期性构成,其中所述吸收层的材料是局部光栅中的高原子序数材料A,间隔层材料是低原子序数材料B。 | ||
地址 | 200092 上海市杨浦区四平路1239号 |