| 发明名称 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，其中制造方法包括：步骤A、在基板的一侧依次形成第一导电层、源漏电极、有源层和绝缘层的图形，其中所述绝缘层上设置有至少一个过孔；步骤B、在形成所述第一导电层、源漏电极、有源层和绝缘层的基板上依次形成栅金属层和钝化层，其中所述栅金属层包括栅电极和栅线，所述栅金属层通过所述至少一个过孔与所述第一导电层连接，形成将静电疏散的通路。可以在Array工艺中提前多步工艺完成ESD回路的形成，使ESD组件充分发挥其疏散电荷的作用，有效的降低了ESD的发生率。 | ||
| 申请公布号 | CN103021943A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
| 申请号 | CN201210546103.9 | 申请日期 | 2012.12.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 于海峰;封宾;林鸿涛 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：步骤A、在基板的一侧依次形成第一导电层、源漏电极、有源层和绝缘层的图形，其中所述绝缘层上设置有至少一个过孔；步骤B、在形成所述第一导电层、源漏电极、有源层和绝缘层的基板上依次形成栅金属层和钝化层，其中所述栅金属层包括栅电极和栅线，所述栅金属层通过所述至少一个过孔与所述第一导电层连接，形成将静电疏散的通路。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||