发明名称 碳化硅横向PIN型微型核电池及其制造方法
摘要 本发明公开了一种碳化硅横向PIN型微型核电池及其制造方法,其核电池包括衬底和设在衬底上的N型SiC外延层,N型SiC外延层上设有N型SiC欧姆接触掺杂区和P型SiC欧姆接触掺杂区,N型SiC欧姆接触掺杂区上设有N型欧姆接触电极,P型SiC欧姆接触掺杂区上设有P型欧姆接触电极;N型SiC外延层上除去N型欧姆接触电极和P型欧姆接触电极的区域设有二氧化硅层;一、提供衬底,二、外延生长N型SiC外延层,三、形成N型SiC欧姆接触掺杂区,四、形成P型SiC欧姆接触掺杂区,五、形成二氧化硅层,六、形成欧姆接触电极,七、形成肖特基接触电极;本发明设计新颖合理,提高了微型核电池的能量转换效率和封装密度。
申请公布号 CN103021492A 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201210580215.6 申请日期 2012.12.27
申请人 长安大学 发明人 张林;李清华;邱彦章;巨永锋
分类号 G21H1/06(2006.01)I 主分类号 G21H1/06(2006.01)I
代理机构 西安创知专利事务所 61213 代理人 谭文琰
主权项 一种碳化硅横向PIN型微型核电池,其特征在于:包括由N型SiC基片构成的衬底(1)和设置在所述衬底(1)上部的N型SiC外延层(2),所述N型SiC外延层(2)上设置有N型SiC欧姆接触掺杂区(3)和P型SiC欧姆接触掺杂区(4),所述N型SiC欧姆接触掺杂区(3)上部设置有形状与所述N型SiC欧姆接触掺杂区(3)形状相同的N型欧姆接触电极(5),所述P型SiC欧姆接触掺杂区(4)上部设置有形状与所述P型SiC欧姆接触掺杂区(4)形状相同的P型欧姆接触电极(6);所述N型SiC欧姆接触掺杂区(3)、P型SiC欧姆接触掺杂区(4)、N型欧姆接触电极(5)和P型欧姆接触电极(6)均为由一条水平指条和多条垂直指条构成的指状结构,所述N型欧姆接触电极(5)的垂直指条与所述P型欧姆接触电极(6)的垂直指条相互交叉设置构成了叉指结构;所述N型SiC外延层(2)上部除去N型欧姆接触电极(5)和P型欧姆接触电极(6)的区域设置有二氧化硅层(7)。
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