| 发明名称 | 镀膜方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种镀膜方法及装置，所述镀膜方法包括步骤：对待镀件的待镀膜区加热；在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。从而，通过预先对待镀件的待镀膜区加热，以提高该待镀膜区的温度，减小该待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于待镀件的待镀膜区结晶，从而镀膜层与待镀件之间没有结晶物的阻隔，镀膜层直接紧密附着于待镀膜区上，提高了镀膜的成功率和稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN103014672A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
| 申请号 | CN201210562933.0 | 申请日期 | 2012.12.21 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 郑文达;吴础任 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人 | 胡海国 |
| 主权项 | 一种镀膜方法，其特征在于，包括步骤：对待镀件的待镀膜区加热；在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 | ||