| 发明名称 |
发光二极体装置的萤光粉涂布制程 |
| 摘要 |
一种发光二极体装置的萤光粉涂布制程叙述如下。提供一发光二极体晶片。形成一光阻层覆盖于发光二极体晶片。图案化光阻层以裸露出发光二极体晶片上欲涂布萤光粉的区域。将萤光粉胶填入欲涂布萤光粉的区域。 |
| 申请公布号 |
TWI392111 |
申请公布日期 |
2013.04.01 |
| 申请号 |
TW096112770 |
申请日期 |
2007.04.11 |
| 申请人 |
亿光电子工业股份有限公司 新北市土城区中央路3段76巷25号 |
发明人 |
赵自皓;吴易座 |
| 分类号 |
H01L33/00 |
主分类号 |
H01L33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
新北市土城区中央路3段76巷25号 |
