发明名称 真空形成设备及真空形成基板之方法
摘要 本发明系关于一种用于在涂覆有树脂的基板上形成光学图案之真空成形设备及真空成形方法。此真空成形设备包含真空腔室主体,此真空腔室主体具有侧壁,及分别用以封闭侧壁之上部与底部的上盖与底板,其中真空腔室主体之内部配设有用以将三维图案移转至基板之上的成型模具,以及能够上升和下降成型模具框架,藉以固定成型模具之边缘。藉由上盖、侧壁及底板封闭之空间,系可由成型模具框架之下降而被划分为上部腔室与下部腔室。此真空成形方法包含:(a)用树脂涂覆基板;(b)将基板放置于真空腔室内部并吸真空;(c)在真空状态下用成型模具接触涂覆有树脂的基板之一侧;(d)使成型模具之上部区域及下部区域相对于彼此处于气密状态;以及(e)使用成型模具作为分界产生压力差,藉以将成型模具附着于基板。此发明也适用于三维图案,例如复杂形式的光学图案,并且即使对于尺寸被放大的基板,也能够防止在形成于基板上的图案中出现未成形区域,或者能够防止出现像空气气泡这样的缺陷。
申请公布号 TWI391226 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW098129976 申请日期 2009.09.04
申请人 米纽塔技术股份有限公司 南韩 发明人 白承俊;金泰完;崔世振
分类号 B29C43/56;B29L11/00 主分类号 B29C43/56
代理机构 代理人 许世正 台北市信义区忠孝东路5段410号4楼
主权项
地址 南韩