发明名称 |
镀钯及镀钯合金之高速方法 |
摘要 |
本发明揭示一种沉积钯及钯合金之高速方法。该高速方法使用水性、具有减少槽中的游离氨之氨基槽。该高速方法可应用在多种基材上,例如电子装置和珠宝上沉积钯和钯合金覆层。 |
申请公布号 |
TWI391533 |
申请公布日期 |
2013.04.01 |
申请号 |
TW097126599 |
申请日期 |
2008.07.14 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
章贝林格 王;葛拉斯 玛吉特;辜贝 琼纳斯;史区华德 服利克斯J |
分类号 |
C25D3/50;C25D3/56;C25D3/02 |
主分类号 |
C25D3/50 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |