发明名称 镀钯及镀钯合金之高速方法
摘要 本发明揭示一种沉积钯及钯合金之高速方法。该高速方法使用水性、具有减少槽中的游离氨之氨基槽。该高速方法可应用在多种基材上,例如电子装置和珠宝上沉积钯和钯合金覆层。
申请公布号 TWI391533 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW097126599 申请日期 2008.07.14
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 美国 发明人 章贝林格 王;葛拉斯 玛吉特;辜贝 琼纳斯;史区华德 服利克斯J
分类号 C25D3/50;C25D3/56;C25D3/02 主分类号 C25D3/50
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 美国
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