发明名称 曝光装置及被曝光体
摘要 本发明系在表面上设定之图案领域一端部之所定位置载置形成有对准记号的滤色器基板6,以搬运机构1将形成有对准记号之一侧做领头搬运该滤色器6,藉摄影机构3摄取对准记号与画素,再以控制机构4依据摄影机构3所取得对准记号的检出输出来算出滤色器基板6上之基准位置与曝光光学系2之光罩17上预先设定基准位置间之位置差,为了修正该位置差,将摄影机构3与曝光光学系2,在与搬运机构1的滤色器基板载置面平行的面内,向直交于滤色器基板6之搬运方向一起移动,而透过光罩17,将曝光光源12所发射之曝光光线照射于滤色器基板6。
申请公布号 TWI391796 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW095127838 申请日期 2006.07.28
申请人 威技研股份有限公司 日本 发明人 梶山康一;渡辺由雄
分类号 G03F9/02;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F9/02
代理机构 代理人 郑再钦 台北市中山区民生东路3段21号10楼
主权项
地址 日本