EUV-Spiegel mit einer Oxynitrid-Deckschicht mit stabiler Zusammensetzung

摘要

Die Erfindung betrifft einen Spiegel (13) zur Verwendung z. B. in einer EUV-Lithographieanlage oder einem EUV-Masken-Metrologiesystem, umfassend: ein Substrat (15) sowie eine für EUV-Strahlung (6) reflektive Beschichtung (16), welche eine Deckschicht (18) aus einem Oxynitrid, insbesondere aus SiNxOY, aufweist. Die Erfindung betrifft auch eine EUV-Lithographieanlage mit mindestens einem solchen EUV-Spiegel (13) sowie ein Verfahren zum Betrieb einer solchen EUV-Lithographieanlage.