模态分析

摘要

在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。

主权项

一种用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加在射频（RF）范围中的电磁能的设备，该设备包括：至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为：确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置；以及对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加一个第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加一个第二预定量的RF能量。