发明名称 |
化合物半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明中设有与化合物半导体层(102)绝缘且与电极(101)和化合物半导体层(103)相接的电极(109)。化合物半导体层(103)的晶格常数小于化合物半导体层(102)和化合物半导体层(104)的晶格常数,化合物半导体层(107)的晶格常数小于化合物半导体层(102)和化合物半导体层(107)的晶格常数。另外,化合物半导体层(103)的传导带的能量高于化合物半导体层(104)的传导带的能量。 |
申请公布号 |
CN103003929A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201080068051.8 |
申请日期 |
2010.07.14 |
申请人 |
富士通株式会社 |
发明人 |
今田忠纮 |
分类号 |
H01L21/338(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L29/12(2006.01)I;H01L29/778(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/80(2006.01)I;H01L29/812(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/338(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
金世煜;苗堃 |
主权项 |
一种化合物半导体装置,其特征在于,具有:第1电极,第1化合物半导体层,形成于所述第1电极的上方,第2化合物半导体层,形成于所述第1化合物半导体层上,第3化合物半导体层,形成于所述第2化合物半导体层上,第2电极,形成于所述第3化合物半导体层的上方,第4化合物半导体层,形成于在所述第1化合物半导体层、所述第2化合物半导体层以及所述第3化合物半导体层的层叠体形成的开口部内,与所述第1化合物半导体层、所述第2化合物半导体层以及所述第3化合物半导体层的侧面相接,栅电极,控制所述第2化合物半导体层与所述第4化合物半导体层的界面的电位,以及第3电极,与所述第1化合物半导体层绝缘,与所述第1电极和所述第2化合物半导体层相接;其中,所述第2化合物半导体层的晶格常数小于所述第1化合物半导体层和所述第3化合物半导体层的晶格常数,所述第4化合物半导体层的晶格常数小于所述第1化合物半导体层和所述第3化合物半导体层的晶格常数,所述第2化合物半导体层的传导带的能量高于所述第3化合物半导体层的传导带的能量。 |
地址 |
日本神奈川县 |