发明名称 |
靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统 |
摘要 |
本文关于用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000),其中磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包含:第一磁铁元件(810,910,1010),所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸;第二磁铁元件(820,920,1020),所述第二磁铁元件环绕第一磁铁元件与第一平面(A)对称地设置;其中第二磁铁元件包含至少一个扇区(826,827,926,927,1028),所述至少一个扇区与第一平面相交;且其中至少一个扇区的磁轴(822,922,1022)相对第二平面(B)而倾斜,所述第二平面与第一轴(X)正交。此外,本文关于用于溅射系统的可旋转靶材的靶材背管、用于溅射系统的圆柱状可旋转靶材及溅射系统。 |
申请公布号 |
CN103003915A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201180034908.9 |
申请日期 |
2011.06.22 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
A·洛珀;J·格里尔梅耶;W·克罗克 |
分类号 |
H01J37/34(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/34(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
胡林岭;侯颖媖 |
主权项 |
一种用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000),其中所述磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包括:第一磁铁元件(810,910,1010),所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸;第二磁铁元件(820,920,1020),所述第二磁铁元件环绕所述第一磁铁元件与第一平面(A)对称地设置;其中所述第二磁铁元件包含至少一个扇区(826,827,926,927,1028),所述至少一个扇区与所述第一平面相交;且其中所述至少一个扇区的磁轴(822,922,1022)相对第二平面(B)倾斜,所述第二平面与所述第一轴(X)正交。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |