发明名称 具有改进的隧穿势垒的磁隧道结
摘要 具有改进的隧穿势垒的磁隧道结。本发明涉及一种制造适合于磁随机存取存储器(MRAM)的磁隧道结的方法,该磁隧道结包括第一铁磁层,隧穿势垒层以及第二铁磁层,该方法包括:形成第一铁磁层;形成隧穿势垒层;以及形成第二铁磁层;其中所述形成隧穿势垒层包括沉积金属镁层;以及氧化沉积的金属镁层,以便将金属镁转化为MgO;形成隧穿势垒层的步骤被执行至少两次,使得隧穿势垒层包括至少两层MgO。
申请公布号 CN103000805A 申请公布日期 2013.03.27
申请号 CN201210401686.6 申请日期 2012.09.07
申请人 克罗科斯科技公司 发明人 I·L·普雷贝亚努;C·波特蒙;C·迪克吕埃
分类号 H01L43/12(2006.01)I;H01L43/08(2006.01)I 主分类号 H01L43/12(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 马丽娜;李浩
主权项 一种制造适合于磁随机存取存储器(MRAM)单元的磁隧道结的方法,该磁隧道结包括第一铁磁层,隧穿势垒层和第二铁磁层,该方法包括:形成第一铁磁层;形成隧穿势垒层;以及形成第二铁磁层;所述形成隧穿势垒层包括沉积金属镁层;以及氧化沉积的金属镁层,以便将金属镁转化为MgO;形成隧穿势垒层的步骤被执行两次以上,使得隧穿势垒层包括两个以上的MgO层,以便减小势垒层包含通过所有MgO层被对齐的针孔的概率。
地址 法国格勒诺布尔