发明名称 |
具有改进的隧穿势垒的磁隧道结 |
摘要 |
具有改进的隧穿势垒的磁隧道结。本发明涉及一种制造适合于磁随机存取存储器(MRAM)的磁隧道结的方法,该磁隧道结包括第一铁磁层,隧穿势垒层以及第二铁磁层,该方法包括:形成第一铁磁层;形成隧穿势垒层;以及形成第二铁磁层;其中所述形成隧穿势垒层包括沉积金属镁层;以及氧化沉积的金属镁层,以便将金属镁转化为MgO;形成隧穿势垒层的步骤被执行至少两次,使得隧穿势垒层包括至少两层MgO。 |
申请公布号 |
CN103000805A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201210401686.6 |
申请日期 |
2012.09.07 |
申请人 |
克罗科斯科技公司 |
发明人 |
I·L·普雷贝亚努;C·波特蒙;C·迪克吕埃 |
分类号 |
H01L43/12(2006.01)I;H01L43/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/12(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
马丽娜;李浩 |
主权项 |
一种制造适合于磁随机存取存储器(MRAM)单元的磁隧道结的方法,该磁隧道结包括第一铁磁层,隧穿势垒层和第二铁磁层,该方法包括:形成第一铁磁层;形成隧穿势垒层;以及形成第二铁磁层;所述形成隧穿势垒层包括沉积金属镁层;以及氧化沉积的金属镁层,以便将金属镁转化为MgO;形成隧穿势垒层的步骤被执行两次以上,使得隧穿势垒层包括两个以上的MgO层,以便减小势垒层包含通过所有MgO层被对齐的针孔的概率。 |
地址 |
法国格勒诺布尔 |