| 发明名称 | 磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板、磁盘的制造方法及磁盘 | ||
| 摘要 | 本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，在主表面抛光工序中，对玻璃基板的一个主表面以达到规定的算术平均粗糙度的方式进行主表面抛光处理，以达到使玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理。 | ||
| 申请公布号 | CN102150209B | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN200980135240.X | 申请日期 | 2009.09.02 |
| 申请人 | HOYA株式会社;HOYA玻璃磁盘(泰国)公司 | 发明人 | 西森贤一;友永忠 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01)I;G11B5/73(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 李帆 |
| 主权项 | 一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括对具有一对主表面的玻璃基板进行抛光的主表面抛光工序，其特征在于，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的一个主表面以达到进行磁记录所要求的算术平均粗糙度(Ra)的方式进行主表面抛光处理，以达到使所述玻璃基板的另一个主表面比所述一个主表面的算术平均粗糙度(Ra)粗糙、为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度的方式对所述另一个主表面进行主表面抛光处理，在所述主表面抛光工序中，对所述玻璃基板的另一个主表面进行的主表面抛光处理的次数比对所述玻璃基板的一个主表面进行的主表面抛光处理的次数少，为防止构成所述磁盘用玻璃基板的成分从所述另一个主表面溶解析出的充分的粗糙度为5.0nm以下，对所述玻璃基板的一个主表面以使算术平均粗糙度(Ra)达到0.30nm以下的方式进行主表面抛光处理。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||