发明名称 |
具有气流限制机构的等离子体处理系统 |
摘要 |
本实用新型公开了一种具有气流限制机构的等离子体处理系统,属于等离子处理技术领域。包括外框、电极板、气体输送管道、抽真空系统、置料夹具;所述电极板、置料夹具、气体输送管道上设有的出气孔均位于外框所形成的真空腔体内;置料夹具为框架型结构,位于两块对应的电极板中间,所述气体输送管道位于置料夹具与电极板之间,其出气孔与所述置料夹具框架相对。本实用新型的具有气流限制机构的等离子体处理系统,能够均匀的进行等离子体处理,避免进行等离子体处理时产生的不均匀问题。还可以提高等离子体处理的效率。 |
申请公布号 |
CN202839532U |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201220465081.9 |
申请日期 |
2012.09.12 |
申请人 |
珠海宝丰堂电子科技有限公司 |
发明人 |
丁雪苗 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
曾旻辉;胡杰 |
主权项 |
一种具有气流限制机构的等离子体处理系统,包括外框、电极板、气体输送管道、抽真空系统、置料夹具;所述电极板、置料夹具、气体输送管道上设有的出气孔均位于外框所形成的真空腔体内;其特征在于,所述置料夹具为框架型结构,位于两块对应的电极板中间,所述气体输送管道位于置料夹具与电极板之间,其出气孔与所述置料夹具框架相对。 |
地址 |
519000 广东省珠海市南屏科技工业园屏西七路5号一楼 |