发明名称 高分子化合物,光阻材料,及图型之形成方法
摘要 本发明系一种高分子化合物,其中下述式(1)~(6)之重复单位之含量为(1)1~60莫耳%,(2)1~60莫耳%,(3)1~50莫耳%,(4)0~60莫耳%,(5)0~30莫耳%,(6)0~30莫耳%,重量平均分子量3,000~30,000,分散度1.5~2.5。;(1) (2) (3) (4) (5) (6);(式中R1、R3、R4、R7、R9、R11系H或CH3。Y为伸甲基或O,Y为伸甲基时,R2为CO2R10。Y为O时,R2为H或CO2R10。R10为C1~15之烷基或烷基中被插入O的基。R5、R6系H或OH。R8系3级酯型酸分解性保护基。R12系含有H之氟烷基。R12可被含氧之官能基取代,及/或碳-碳键间可夹着O)。;含有以本发明之高分子化合物为基底树脂之光阻材料系具有高解像度,改善线粗糙度及I/G偏离(bias)。
申请公布号 TWI389923 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW095149254 申请日期 2006.12.27
申请人 信越化学工业股份有限公司 日本 发明人 船津显之;小林知洋;长谷川幸士;西恒宽
分类号 C08F220/28;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F220/28
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本