发明名称 |
一种建立MOSFET模型的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种建立MOSFET模型的方法,包括1、以所述MOSFET的栅极长度和栅极宽度为坐标轴建立坐标系,并在所述坐标系的整个器件尺寸阵列中提取全局模型;2、将所述步骤1所提取的全局模型中的参数Dvt0、Dvt1、Dvt2、nlx、prwg、prwb、k3、k3b、w0、dwg、dwb、b0、b1、l1、lw、lw1、ww、w1、ww1都设置为0;3、以所述步骤2所提取的全局模型为基础,提取所述器件尺寸阵列中所有MOSFET器件的单模型;4、提取分块模型。该方法用全局的方法建立分块模型,结合了全局模型和分块模型的优点,在消除参数不连续的同时还具有很好的模型精度,并且能快速建立模型。 |
申请公布号 |
CN102385647B |
申请公布日期 |
2013.03.20 |
申请号 |
CN201010272044.1 |
申请日期 |
2010.09.01 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
朱正鹏 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
一种建立MOSFET模型的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:步骤1、以所述MOSFET的栅极长度和栅极宽度为坐标轴建立坐标系,并在所述坐标系的整个器件尺寸阵列中提取全局模型;步骤2、将所述步骤1所提取的全局模型中的参数Dvt0、Dvt1、Dvt2、nlx、prwg、prwb、k3、k3b、w0、dwg、dwb、b0、b1、ll、lw、lwl、ww、wl、wwl都设置为0;步骤3、以所述步骤2所提取的全局模型为基础,提取所述器件尺寸阵列中所有MOSFET器件的单模型;步骤4、提取分块模型。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 |