发明名称 |
阵列基板及其制造方法、显示装置、线宽测量方法和装置 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种阵列基板及其制造方法、显示装置、线宽测量方法和装置,涉及液晶显示器领域,可以测量获得准确的条状电极的线宽。所述阵列基板包括透明基板,设置在所述透明基板上的栅金属层、栅绝缘层、有源层、源漏金属层以及钝化层;其中,所述栅金属层包括:栅线和栅极的图案,所述源漏金属层包括:数据线、源极、漏极的图案;所述阵列基板还包括:设置在像素区域内的第一条状电极和设置在线宽测量区的第二条状电极;还包括:设置在所述线宽测量区的不透明图案,所述不透明图案位于所述第二条状电极的下方且至少一个第二条状电极的部分两侧边界位于所述不透明图案所在的区域内;所述钝化层至少覆盖所述像素区域。 |
申请公布号 |
CN102981332A |
申请公布日期 |
2013.03.20 |
申请号 |
CN201210475414.0 |
申请日期 |
2012.11.21 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
刘耀;孙亮;丁向前;李梁梁;白金超 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G01B21/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板,包括:透明基板,设置在所述透明基板上的栅金属层、栅绝缘层、有源层、源漏金属层以及钝化层;其中,所述栅金属层包括:栅线和栅极的图案,所述源漏金属层包括:数据线、源极、漏极的图案;所述阵列基板还包括:设置在像素区域内的第一条状电极和设置在线宽测量区的第二条状电极;其特征在于,还包括:设置在所述线宽测量区的不透明图案,所述不透明图案位于所述第二条状电极的下方且至少一个第二条状电极的部分两侧边界位于所述不透明图案所在的区域内;所述钝化层至少覆盖所述像素区域。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |