发明名称 |
发光元件及其制造方法 |
摘要 |
一种发光元件及其制造方法。具有发光外延结构的发光元件,该发光外延结构于反向偏压的条件下,于负10微安培/毫米2的电流密度下,对应的临界反向电压的绝对值大于50伏特;其中该发光外延结构于正向偏压的条件下,以150毫安培/毫米2的电流密度驱动时,具有至少50流明/瓦特的发光效率。发光元件的制造方法,包含:提供基板;于第一生长条件下于该基板上生长第一外延层;于第二生长条件下于该第一外延层上生长工艺转换层;于第三生长条件下于该工艺转换层上生长第二外延层;其中该第一生长条件与该第三生长条件具有工艺变化;且该工艺转换层的导电率大于该第一外延层和/或该第二外延层的导电率。 |
申请公布号 |
CN101930987B |
申请公布日期 |
2013.03.20 |
申请号 |
CN200910146218.7 |
申请日期 |
2009.06.22 |
申请人 |
晶元光电股份有限公司 |
发明人 |
张中英;黄文嘉;赖昭序;林天坤 |
分类号 |
H01L27/15(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/15(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
一种具有高反向电压值的发光元件,包含至少一发光单元,该发光单元包含发光外延结构,其中该发光外延结构包含接触层、工艺转换层、n型半导体层、p型半导体层以及介于该n型半导体层及该p型半导体层之间的有源层,其中该工艺转换层的导电率大于该n型半导体层及该有源层,其中该发光外延结构于反向偏压的条件下,于负10微安培/毫米2的电流密度下,对应的反向电压值的绝对值大于50伏特。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |