| 发明名称 | 发光元件、发光元件阵列、光写头、及图像形成设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供发光元件、发光元件阵列、光写头、及图像形成设备。所述发光元件包括半导体衬底和形成在该半导体衬底上的岛结构。所述岛结构包括发光单元晶闸管和电流限制结构。所述发光单元晶闸管包括具有pnpn结构的堆叠的多个半导体层。所述电流限制结构包括高阻区和导电区，并限制所述导电区中的载流子。 | ||
| 申请公布号 | CN102969421A | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
| 申请号 | CN201210102366.0 | 申请日期 | 2012.04.09 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 木下卓;近藤崇;武田一隆;中山秀生 |
| 分类号 | H01L33/14(2010.01)I;G03G15/04(2006.01)I;B41J2/45(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/14(2010.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 陈源;张天舒 |
| 主权项 | 一种发光元件，包括：半导体衬底；以及岛结构，其形成在所述半导体衬底上，所述岛结构包括：发光单元晶闸管，其包括具有pnpn结构的堆叠的多个半导体层，以及电流限制结构，所述电流限制结构包括高阻区和导电区，并且用于限制所述导电区中的载流子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||