| 发明名称 | 一种清洁装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体场景，该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪，该喷枪的设置位置为：在与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有喷枪；所述装置上还可以设置从轨道吸气的收集器，该收集器的设置位置为：在与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有收集器。本实用新型都能够有效地进行轨道清洁，因此能够避免因外物落在轨道上而影响基台运动的情况发生。 | ||
| 申请公布号 | CN202779055U | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
| 申请号 | CN201220337086.3 | 申请日期 | 2012.07.11 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 王凤国;李平福;陈磊;李嘉鹏;胡博 |
| 分类号 | B08B5/02(2006.01)I;B08B15/00(2006.01)I | 主分类号 | B08B5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 张颖玲;周义刚 |
| 主权项 | 一种清洁装置，应用于包括基台和轨道的半导体上，其特征在于，该清洁装置包括向轨道吹气的喷枪，所述喷枪设置于与至少一条轨道同侧的基台上，面向轨道的至少一端设置有喷枪。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 | ||