一种双面制程方法及曝光装置

摘要

本发明涉及半导体和液晶显示器领域，尤其涉及半导体和液晶显示器制作过程中双面制程方法及曝光装置，即在曝光操作过程中，首先对曝光机内两张光掩模进行设备内的对位处理，再将基板运送到曝光装置的两张光掩模之间，然后进行该基板双面图形的制作。该曝光装置包括两张掩光板，需要加工的基板设置在所述两张掩光板之间；所述两张掩光板上分别设有掩光板对位标识。本发明在基板图案双面制程时，对掩光板预先进行对位操作，保证了基板双面图案的精确，保证了产品的质量。

主权项

一种双面制程方法，其特征在于，在曝光操作过程中，包括以下步骤：S1：对曝光装置内两张掩光板进行对位处理；S2：将基板运送到曝光装置的两张掩光板之间；S3：在所述基板上进行双面图形的曝光操作。