发明名称 曝光设备
摘要 一照射光学系统,其使用来自光源之光照射照射面,该照射光学系统包括第一光学单元,被组构成聚集来自该光源之光;反射积分器,被组构成使用来自该第一光学单元之光以形成复数个二次光源,该反射积分器包括具有复数个圆柱形反射面之复数个积分器部件,而该复数个圆柱形反射面具有相同的母面方向;孔径光阑,系配置成垂直于该母面方向;以及第二光学单元,被组构成将来自每一个二次光源的光叠置在该照射面上,其中,该复数个积分器部件被配置在垂直于该母面方向,并垂直于该等圆柱形反射面之配置方向的方向上,且被设置于该孔径光阑的入射面侧,而使得从该第一光学单元来看,在该复数个积分器部件中的其中一个积分器部件处所反射的光和在该复数个积分器部件中的另一个积分器部件处所反射的光通过该孔径光阑的开口。
申请公布号 TWI388935 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW096137136 申请日期 2007.10.03
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 梶山和彦;辻俊彦
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本