发明名称 积层薄膜
摘要 一种积层薄膜,其特征为其构成为在热塑性树脂薄膜之至少一面,设置含有组成物(A)、环氧系交联剂(B)、具有碳原子数为18~25之烷基链之丙烯酸系树脂(C)构成之积层膜而成的积层薄膜,其中组成物(A)系至少含有聚噻吩与聚阴离子之组成物和/或含有聚噻吩衍生物与聚阴离子之组成物,且在积层膜中,相对于100重量份之组成物(A)与交联剂(B)和/或其反应产物之合计,含有15~100重量份之具有碳原子数为18~25之烷基链之丙烯酸系树脂(C),且该积层薄膜之至少一面之三次元中心线平均粗糙度(SRa)为3~50奈米,且包含在该积层薄膜中之平均粒径为100微米以上之内部异物为少于10个/m2,藉此可制得具有优越的迄今为止所不能达成的高水准之导电性、离型性、耐水性,且也兼备在加热时的低聚合物之析出抑制性之积层薄膜。
申请公布号 TWI388425 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW094133632 申请日期 2005.09.28
申请人 东丽股份有限公司 日本 发明人 高田育;柳桥真人;牛岛正人;原田裕
分类号 B32B27/00 主分类号 B32B27/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本