钽化学机械抛光液的制备方法

摘要

本发明涉及一种钽化学机械抛光液的制备方法，其特征是：制备步骤如下，清洗容器和管道，采用18MΩ的超纯去离子水清洗反应器、管道和器具三遍；操作工人身体及手套、口罩及服装进行超净处理；将碱性pH调节剂用18MΩ超纯去离子水稀释后逐渐加入反应器内的抛光液中，采用负压涡流法进行气体搅拌，其加入量为直至抛光液达到pH值9-12；将FA/OI型表面活性剂逐渐加入处于负压涡流状态下的反应器内的抛光液中，在反应器内的抛光液中逐渐加入粒径15-100nm的纳米级硅溶胶浓度为40-50wt％，使其在负压下保持涡流状态进行气体搅拌直至硅溶胶制成SiO2水溶液的钽抛光液。有益效果：选用碱性抛光液对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端。

主权项

一种钽化学机械抛光液的制备方法，其特征是：制备步骤如下，(1)清洗容器和管道：采用18MΩ的超纯去离子水清洗反应器、管道和器具三遍；操作工人身体及手套、口罩及服装进行千级超净处理；(2)将碱性pH调节剂用18MΩ超纯去离子水稀释后逐渐加入反应器内的抛光液中，采用负压涡流法进行气体搅拌，其加入量为直至抛光液达到pH值9‑12，即可；(3)将0.25‑1％的FA/OI型表面活性剂逐渐加入处于负压涡流状态下的反应器内的抛光液中；(4)在反应器内的抛光液中逐渐加入20‑90％的粒径15‑100nm的纳米级硅溶胶，浓度为40‑50wt％，使其在负压下保持涡流状态进行气体搅拌直至硅溶胶制成SiO2水溶液的钽抛光液。