发明名称 |
一种带电粒子束装置 |
摘要 |
本发明提供一种带电粒子束装置,其具备:生成带电粒子束的带电粒子束发生器;生成使上述带电粒子束在外部的基板上成像的透镜场的投影光学系统;围着上述带电粒子束的光轴地配置的偏转器,该偏转器生成对应于上述带电粒子束应入射上述基板的角度其强度在上述光轴方向上变化地形成的偏转场,该偏转场与上述透镜场重叠且使上述带电粒子束偏向并控制朝向上述基板照射的位置。 |
申请公布号 |
CN1645548B |
申请公布日期 |
2013.03.06 |
申请号 |
CN200510002635.6 |
申请日期 |
2005.01.21 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
长野修 |
分类号 |
H01J37/147(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/147(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
陈海红;段承恩 |
主权项 |
一种带电粒子束装置,其具备:生成带电粒子束的带电粒子束发生器;生成使上述带电粒子束在外部的基板上成像的透镜场的投影光学系统;以及一段的偏转器,该偏转器围着上述带电粒子束的光轴地配置,与上述透镜场重叠地使上述带电粒子束偏转控制其朝向上述基板照射的位置,该偏转器夹着上述光轴的面的间隔在上述光轴的方向上变化,上述偏转器生成对应于上述带电粒子束应入射上述基板的角度其强度在上述光轴的方向上变化的偏转场,并且上述偏转器,其夹持上述光轴的面相对上述光轴的方向具有倾斜角地形成、因上述倾斜角的变化而夹持上述光轴的面的间隔在上述光轴的方向上分三级地变大地变化,并且,夹持上述光轴的面相对上述带电粒子束行进的方向,具有三个不同的角度,当设上述三个不同的角度在朝向上述带电粒子束行进的方向上,依次分别为θ1、θ2、θ3时,则该三个角度之间满足θ2>θ1且θ2>θ3的关系。 |
地址 |
日本东京都 |