发明名称 |
双通道均化低压化学气相沉积系统 |
摘要 |
本实用新型公开了一种双通道均化低压化学气相沉积系统,包括沉积室、设在沉积室内的石英舟、若干个插装在石英舟上的基片和设在沉积室底部的加热系统;沉积室的一端设有抽气口,其特征在于:所述沉积室内设有进气管,进气管的两端口分别穿出沉积室的两端,位于沉积室内的进气管的管壁上均匀设置有若干个透气孔。所述进气管的数目为两个。所述进气管的两个端口中,至少有一个端口处安装有流量调节阀。本实用新型的沉积室内的气流均匀,可保证理想的沉积效果。 |
申请公布号 |
CN202766615U |
申请公布日期 |
2013.03.06 |
申请号 |
CN201220387002.7 |
申请日期 |
2012.08.06 |
申请人 |
上海崛启电子设备有限公司 |
发明人 |
蒋友华 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
上海三和万国知识产权代理事务所 31230 |
代理人 |
陈伟勇 |
主权项 |
一种双通道均化低压化学气相沉积系统,包括沉积室、设在沉积室内的石英舟、若干个插装在石英舟上的基片和设在沉积室底部的加热系统;沉积室的一端设有抽气口,其特征在于:所述沉积室内设有进气管,进气管的两端口分别穿出沉积室的两端,位于沉积室内的进气管的管壁上均匀设置有若干个透气孔。 |
地址 |
200240 上海市闵行区剑川路888号3幢312室 |