发明名称 用于离子植入系统之离子束角度测量系统及方法
摘要 本发明藉由运用正狭缝结构与负狭缝结构来取得沿着一离子植入轴线的入射角度量测值。该等正狭缝结构具有:入口开口;出口开口;以及介于其间的狭缝轮廓,用以取得一离子束于一正方向中具有一选定角度范围的一(或多个)部份。该等负狭缝结构具有:入口开口;出口开口;以及介于其间的狭缝轮廓,用以取得该离子束中于一负方向中具有一选定角度范围的一(或多个)部份。一第一射束量测机制会量测该正部份的射束电流,用以取得一正角度射束电流量测值。一第二射束量测机制会量测该负部份的射束电流,用以取得一负角度射束电流量测值。一分析器组件会运用该正角度射束电流量测值与该负角度射束电流量测值来决定一经测得的入射角度。
申请公布号 TWI388002 申请公布日期 2013.03.01
申请号 TW095146642 申请日期 2006.12.13
申请人 艾克塞利斯科技公司 美国 发明人 布莱恩S 弗瑞;亚历山大S 普瑞尔
分类号 H01L21/265;H01L21/66 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 美国
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