| 发明名称 |
A process for the manufacture of a high density ITO sputtering target |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2459917(B) |
申请公布日期 |
2013.02.27 |
| 申请号 |
GB20080008431 |
申请日期 |
2008.05.12 |
| 申请人 |
SINITO (SHENZHEN) OPTOELECTRICAL ADVANCED MATERIALS COMPANY LIMITED |
发明人 |
CHARLES EDMUND KING;DOSTEN BALUCH |
| 分类号 |
C01G15/00;C01G19/02;C04B35/457;C23C14/34 |
主分类号 |
C01G15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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