发明名称 |
一种具有沟槽源极场板的Trench MOSFET晶体管 |
摘要 |
本实用新型公开了一种具有沟槽源极场板的TrenchMOSFET晶体管,从下往上依次包括漏极(213)、衬底(200)、漂移区(201)及源极(212);漂移区(201)设有若干深沟槽(202),深沟槽(202)内设有沟槽源极场板(204),沟槽源极场板(204)两侧的深沟槽(202)内设有厚氧化层(203),沟槽源极场板(204)两侧的厚氧化层(203)上各设有一个栅极(206),栅极(206)与深沟槽(202)的内壁之间设有栅极氧化层(205)。通过本实用新型能增强晶体管的耐压能力,同时获得更快的开关速度、更小的损耗。 |
申请公布号 |
CN202758892U |
申请公布日期 |
2013.02.27 |
申请号 |
CN201220433435.1 |
申请日期 |
2012.08.29 |
申请人 |
成都瑞芯电子有限公司 |
发明人 |
王新;朱怀宇 |
分类号 |
H01L29/417(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/417(2006.01)I |
代理机构 |
成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 |
代理人 |
谭新民 |
主权项 |
一种具有沟槽源极场板的Trench MOSFET晶体管,其特征在于:从下往上依次包括漏极(213)、衬底(200)、漂移区(201)及源极(212);所述漂移区(201)设有若干深沟槽(202),深沟槽(202)内设有沟槽源极场板(204),所述沟槽源极场板(204)两侧的深沟槽(202)内设有厚氧化层(203),沟槽源极场板(204)两侧的厚氧化层(203)上各设有一个栅极(206),栅极(206)与深沟槽(202)的内壁之间设有栅极氧化层(205);所述相邻深沟槽(202)之间设有体区(207),所述体区(207)的上方设有两个源区(208)和一个欧姆接触区(211),两个源区(208)分别位于欧姆接触区(211)的两侧;所述深沟槽(202)的上方设有隔离氧化层(209),隔离氧化层(209)上设有若干接触孔(210),欧姆接触区(211)通过接触孔(210)与源极(212)连通。 |
地址 |
610000 四川省成都市高新区世纪城南路216号天府软件园D区6号楼14层 |