发明名称 |
高性能永磁体的制备方法 |
摘要 |
高性能永磁体制备的方法,在永磁粉料成坯工艺中施加取向场,施加取向场的永磁体成坯模具的上模板内衬一层非导磁金属层,或在上模板镶嵌一块整体的非导磁金属层,非导磁金属层的面积与永磁体成坯模具下模型腔的表面积的比为80-800%,一层或整体非导磁金属层的整体厚度是1mm-150mm;上模板装在成坯模具下模的正上方。成坯模具上模的正上方非导磁金属层的相邻部位均为导磁材料。此种方法也应用于倒置的模具中。 |
申请公布号 |
CN101819846B |
申请公布日期 |
2013.02.27 |
申请号 |
CN200910024945.6 |
申请日期 |
2009.02.27 |
申请人 |
孙立生 |
发明人 |
孙立生 |
分类号 |
H01F7/02(2006.01)I;H01F41/02(2006.01)I;B22F3/03(2006.01)I |
主分类号 |
H01F7/02(2006.01)I |
代理机构 |
南京天翼专利代理有限责任公司 32112 |
代理人 |
汤志武;王鹏翔 |
主权项 |
高性能永磁体磁瓦的制备方法,在永磁粉料成坯工艺中施加取向场,其特征是施加取向场的永磁体成坯模具的上模的上模板内衬一层非导磁金属层,或在上模板镶嵌一块整体的非导磁金属层,非导磁金属层的面积与永磁体成坯模具下模型腔的表面积的比为100‑240%,一层或整体非导磁金属层的整体厚度是1mm‑150mm;上模板装在成坯模具下模的正上方。 |
地址 |
210005 江苏省南京市白下区石鼓路13号201室 |