发明名称 基于消影玻璃的电容触摸屏
摘要 本实用新型的发明目的在于提供消影效果好、同时有效保护金属电极的基于消影玻璃的电容触摸屏,包括玻璃基板,玻璃基板厚度为0.28mm~1.1mm;所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜;增透减反射AR膜由至少一层高折射率镀膜和至少一层低折射率镀膜依次交替层叠形成;设有导电线条和电极;导电线条和电极上还镀有绝缘保护膜层。本实用新型的有益效果在于:通过在玻璃基板和氧化铟锡ITO膜之间镀设多层AR膜,有效消除刻蚀线阴影;膜层材质、膜层厚度、膜层结构选择方式丰富,适用范围广且加工方便;金属或ITO线路上方设置SiO<sub>2</sub>膜层和OC膜层或两者的组合,有效保护导电线条和电极,防止电极损坏和增加产品结构的多选择性。
申请公布号 CN202758338U 申请公布日期 2013.02.27
申请号 CN201220350210.X 申请日期 2012.07.18
申请人 浙江大明玻璃有限公司 发明人 屠有军;郑永;袁发根
分类号 G06F3/044(2006.01)I 主分类号 G06F3/044(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 汤时达
主权项 1.基于消影玻璃的电容触摸屏,包括玻璃基板,其特征在于:1-1)所述玻璃基板厚度为0.28mm~1.1mm;1-2)所述玻璃基板至少一面镀有增透减反射AR膜和氧化铟锡ITO膜;1-3)增透减反射AR膜由至少1层高折射率镀膜和至少1层低折射率镀膜依次交替层叠形成;1-4)设有导电线条和电极;1-5)导电线条和电极上还镀有绝缘保护膜层。2.根据权利要求1所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述导电线条和电极由氧化铟锡ITO膜刻蚀成形。3.根据权利要求1所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述导电线条和电极由镀设在氧化铟锡ITO膜和绝缘保护膜层之间的金属膜刻蚀成形。4.根据权利要求1所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述绝缘保护膜层为<img file="DEST_PATH_DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="34" he="24" />膜层,厚度为30nm~1000nm。5.根据权利要求1所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述绝缘保护膜层为OC胶,厚度为1<img file="DEST_PATH_DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />~5<img file="DEST_PATH_724240DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />。6.根据权利要求1所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述绝缘保护膜层为<img file="DEST_PATH_538612DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="34" he="24" />膜层和OC胶复合膜层,OC胶覆盖在<img file="DEST_PATH_361074DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="34" he="24" />膜层上,<img file="DEST_PATH_441157DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="34" he="24" />膜层厚度为30nm~1000nm,OC胶厚度为1<img file="DEST_PATH_640057DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />~5<img file="DEST_PATH_308936DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />。7.根据权利要求3至6任一项所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述金属电极的材质选自铜、钼、铝、银中的一种,厚度为1<img file="DEST_PATH_302300DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />~5<img file="DEST_PATH_118946DEST_PATH_IMAGE004.GIF" wi="26" he="18" />。8.根据权利要求1至6任一项所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述氧化铟锡ITO膜厚度5nm~200nm,增透减反射AR膜包括2~8层镀膜,总厚度为50nm~500nm。9.根据权利要求1至6任一项所述的基于消影玻璃的电容触摸屏,其特征在于:所述高折射率镀膜为<img file="DEST_PATH_DEST_PATH_IMAGE006.GIF" wi="34" he="24" />膜或<img file="DEST_PATH_DEST_PATH_IMAGE008.GIF" wi="46" he="25" />膜,膜层厚度为5nm~500nm;所述低折射率镀膜为<img file="DEST_PATH_689515DEST_PATH_IMAGE002.GIF" wi="34" he="24" />膜,膜层厚度为30nm~1000nm。
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