发明名称 感光性积层体制造装置及制造方法
摘要 本发明系将可挠性基底膜(26)放置于皮带输送机(104a~104d)及(106a~106d)后,使一方之皮带输送机(104a~104d)朝箭头Y2方向移动,并且使放置面朝箭头Y1方向移动,使另一方之皮带输送机(106a~106d)朝箭头Y1方向移动,并且使放置面朝箭头Y2方向移动,再者,藉由使皮带输送机(104a~104d)及(106a~106d)朝箭头θ方向移动,而使可挠性基底膜(26)从皮带输送机(104a~104d)及(106a~106d)落下于基底膜收容部(102)而收容。
申请公布号 TWI386312 申请公布日期 2013.02.21
申请号 TW097110459 申请日期 2008.03.25
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 长谷明彦;泽原真吾
分类号 B32B37/24;B32B7/08;B29C65/02;B29C65/82;G03F7/004 主分类号 B32B37/24
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本