Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines niedrigemittierenden Schichtsystems

摘要

Der Erfindung, die ein Verfahren zur Herstellung eines niedrigemittierenden Schichtsystems, umfassend die Schritte des Ausbildens zumindest einer niedrigemittierenden Schicht auf mindestens einer Seite des Substrats mittels Abscheidung und nachfolgendes Kurzzeittempern mindestens einer abgeschiedenen niedrigemittierenden Schicht mittels elektromagnetischer Strahlung unter Vermeidung einer sofortigen Aufheizung des Substrats und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, die optischen und thermischen Eigenschaften eines niedrigemittierenden Schichtsystems ohne kostenaufwendige Temperung des gesamten Substrats und unter Beibehaltung der Konfektionierbarkeit des low-e beschichteten Substrats zu verbessern.