包含氧化剂和有机溶剂的微电子清洁组合物

摘要

适用于清洁具有二氧化硅、低κ或高κ电介质和铜或铝金属化的微电子结构的清洁组合物包含氧化剂和选自酰胺、砜、环丁烯砜、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂，及任选的其它组分。

主权项

清洁组合物，其能够从铜金属化且具有低κ或高κ电介质的微电子基底清洁高度交联或硬化的光致抗蚀剂、后等离子体蚀刻/灰化残留物、牺牲光吸收材料、防反射涂层、和含有钛或钽的结构，所述清洁组合物包含：0.1至30重量％的过氧化氢，作为氧化剂；1至99.9重量％的环丁砜，作为具有氢键键合能力以及与所述过氧化氢发生最小程度的反应或不发生反应的极性有机溶剂；大于0且小于等于30重量％的氢氧化四烷基铵，作为碱；0.1至5重量％的螯合剂或金属络合剂，其选自反‑1,2‑环己烷二胺四乙酸和乙二胺四(亚甲基膦酸)；和0.1至98重量％的水，其中该清洁组合物中各成分含量百分比的总和等于100%。