用于光罩幕电浆蚀刻之方法与设备

摘要

在此提供一种用于蚀刻光罩幕的方法和设备。该设备包括一制程腔室，制程腔室在基材支架上方具有护板。该护板包含具有孔的板，以及该板具有两个区域，这两个区域具有至少一种彼此不同的属性，诸如材料或电位偏压。该方法提供了利用通过护板的离子和中性物质分布来蚀刻一光罩幕基材。