| 摘要 |
一种气相成长装置，其系于反应炉内包含：配设有复数之气体喷出孔之簇射头、及与上述簇射头相对向而设置且配设有复数之板孔之簇射板，自上述簇射头起，通过该簇射头之气体喷出孔及簇射板之板孔而向收纳有被处理基板之成长室内供给气体，以于被处理基板上成膜，于较基板保持构件之经基板加热器所加热之区域更外侧，且与上述基板保持构件之对向面，在上述簇射头上靠近配置有簇射板之面上，形成有低导热区域。由此，提供一种藉由防止簇射头之气体喷出孔堵塞而抑制所供给之反应气体流产生不均，从而可确保被处理基板上之膜均匀性及膜再现性的气相成长装置及气相成长方法。 |
