发明名称 Verfahren zur Bereitstellung jeweils einer ebenen Arbeitsschicht auf jeder der zwei Arbeitsscheiben einer Doppelseiten-Bearbeitungsvorrichtung
摘要 <p>Verfahren zur Bereitstellung jeweils einer ebenen Arbeitsschicht (32, 39) auf jeder der zwei Arbeitsscheiben (13, 26) einer Doppelseiten-Bearbeitungsvorrichtung, die eine ringförmige obere Arbeitsscheibe (13), eine ringförmige untere Arbeitsscheibe (26) und eine Abwälzvorrichtung (20, 21) umfasst, wobei die beiden Arbeitsscheiben (13, 26) sowie die Abwälzvorrichtung (20, 21) um die Symmetrieachse (28) der Doppelseiten-Bearbeitungsvorrichtung rotierbar gelagert sind und wobei das Verfahren folgende Schritte in der angegebenen Reihenfolge umfasst: (a) Aufbringen einer unteren Zwischenschicht (29) auf der Oberfläche der unteren Arbeitsscheibe (26) und einer oberen Zwischenschicht (16) auf der Oberfläche der oberen Arbeitsscheibe (13); (b) gleichzeitiges Ebnen beider Zwischenschichten (16, 29) mittels mindestens dreier Abrichtvorrichtungen, jeweils umfassend eine Abrichtscheibe (34), mindestens einen einen Abrasivstoff enthaltenden Abrichtkörper (35, 36) und eine Außenverzahnung (37), wobei die Abrichtvorrichtungen mittels der Abwälzvorrichtung (20, 21) und der Außenverzahnung (37) unter Druck und Zugabe eines Kühlschmiermittels, das keine abrasiv wirkenden Stoffe enthält, auf Zykloidenbahnen über die Zwischenschichten...</p>
申请公布号 DE102011003006(B4) 申请公布日期 2013.02.07
申请号 DE20111003006 申请日期 2011.01.21
申请人 SILTRONIC AG 发明人 PIETSCH, GEORG, DR.
分类号 H01L21/304;B24B37/04 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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