| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Dämpfungsanordnung zur Dissipation von Schwingungsenergie eines Elementes in einem System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Tilgermasse (115, 215, 315, 415, 515, 615, 715), welche über eine stabile Lagerung in Bezug auf das Element (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710) gelagert ist, wobei die Tilgermasse (115, 215, 315, 415, 515, 615, 715) in einem innerhalb des Elementes vorhandenen Hohlraum angeordnet und von einem in diesem Hohlraum befindlichen Fluid (120, 220, 320, 420, 520, 620, 720) wenigstens teilweise umgeben ist, und wobei durch die Tilgermasse (115, 215, 315, 415, 515, 615, 715) ein Masse-Feder-System gebildet wird, welches eine im Anbindepunkt der Tilgermasse (115, 215, 315, 415, 515, 615, 715) bestehende translatorische Bewegungskomponente einer Schwingung des Elementes (110, 210, 310, 410, 510, 610, 710) dämpft. |
