发明名称 正和/或负C片的薄膜设计
摘要 薄膜涂层,例如其包括高、低折射率材料组成的交替层,根据入射光条件可作为正、负C片。特别地,延迟与入射角关系曲线的形状被发现可以由薄膜涂层的相位厚度(即以入射光波长表示的光学厚度,可通过角度、弧度或1/4波长数等形式表示)决定或至少部分决定。这些薄膜涂层可以被选择集成到防反射涂层、薄膜干涉滤光片和/或其他元件中,以改善性能和/或功能。
申请公布号 CN101173994B 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN200710105973.1 申请日期 2007.06.04
申请人 JDS尤尼弗思公司 发明人 克伦·D.·亨德里克斯;金姆·L.·坦
分类号 G02B5/30(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 郑小粤
主权项 一种薄膜涂层,包括:一个具有基本周期的多层叠层,其中所述基本周期包括由至少两种折射率有反差的各向同性材料构成的交替层,且所述基本周期在第一波长λ0下的等效相位厚度为π;所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率被选择,以在预定第二波长下为所述多层叠层提供C片的功能,使得所述多层叠层在所述预定第二波长及预定非法向入射角条件下提供预定延迟,并且使所述基本周期在所述预定第二波长下的等效相位厚度大于π,和其中在所述第一波长和所述预定第二波长中的每一个下的所述等效相位厚度对应法向入射光。
地址 美国加利福尼亚州苗必达麦卡锡林荫大道430号