| 发明名称 | 多层反射镜 | ||
| 摘要 | 提供一种多层反射镜(80)，包括第一材料层(84)和硅层(82)。第一材料层和硅层形成叠层。硅层的暴露区域包括布置用以改善硅的暴露区域的鲁棒性的改性部。 | ||
| 申请公布号 | CN102918463A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
| 申请号 | CN201180025900.6 | 申请日期 | 2011.04.06 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | V·季莫什科夫;A·亚库宁;E·欧苏瑞欧奥利弗罗斯;J·B·P·范斯库特;A·T·W·凯姆彭 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张启程 |
| 主权项 | 一种多层反射镜，包括：第一材料层；硅层；第一材料层和硅层形成叠层；其中硅层的暴露区域包括布置用以改善硅的暴露区域的鲁棒性的改性部。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||