发明名称 一种硅基薄膜太阳电池及其制备方法
摘要 一种硅基薄膜电池太阳电池,以具有种子层结构的n型纳米晶硅氧材料作为背反射电极,n型纳米晶硅氧材料的结构式为nc-SiOx:H,厚度为20-100nm,硅基薄膜太阳电池的类型为p/i/n型单结或多结;该硅基薄膜电池太阳电池的制备方法是:沉积完薄膜电池后,通过等离子处理电池的n型非晶硅层后制备n型nc-Si:H种子层,然后制备n型nc-SiOx:H材料。本发明的优点是:n型nc-Si:H种子层的加入可以提高材料的晶化率和电导率,减小电池串联电阻,降低制备难度;该材料用于硅基薄膜太阳电池背反射电极具有与ZnO相近的背反射效果,不仅提高了电池的入射光利用率,而且可降低硅基薄膜太阳电池制备成本。
申请公布号 CN102916060A 申请公布日期 2013.02.06
申请号 CN201210435963.5 申请日期 2012.11.05
申请人 南开大学 发明人 任慧志;张晓丹;赵颖;侯国付;许盛之
分类号 H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/076(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 H01L31/0224(2006.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人 侯力
主权项 一种硅基薄膜电池太阳电池,其特征在于:以具有种子层结构的n型纳米晶硅氧材料作为背反射电极,种子层厚度为1‑30nm,n型纳米晶硅氧材料的结构式为nc‑SiOx:H,厚度为20‑100nm,硅基薄膜太阳电池的类型为p/i/n型单结或多结,单结硅基薄膜太阳电池的结构为:Glass/TCO/p/i/n(a‑Si:H)/n(nc‑Si:H)/n(nc‑SiOx:H)/Al,多结太阳电池的结构为:Glass/TCO/p/i/n/p/i/n…/n(a‑Si:H)/n(nc‑Si:H)/n(nc‑SiOx:H)/Al或Glass/TCO/p/i/n/p/i/n…/n(a‑Si:H)/n(nc‑Si:H)/n(nc‑SiOx:H)/Ag/Al。
地址 300071 天津市南开区卫津路94号
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